+86-592-5803997
HFE 7200 Cas 163702 06 5 для очистки полупроводников

HFE 7200 Cas 163702 06 5 для очистки полупроводников

Замена NOVEC HFE 7200
Основные преимущества:
1. Низкое поверхностное натяжение; низкий потенциал испарения;
2. Отличная совместимость материалов; умеренная растворимость;
3. Отличные характеристики электроизоляции;
4. Отличная теплопроводность, термическая и химическая стабильность;
5. Низкая вязкость, небольшое изменение вязкости при низкой температуре;
6. Высушить, удалить влагу, не оставлять водяных знаков;

Описание

HFE 7200 Cas 163702 06 5 для очистки полупроводников Тел.:+086-592-5803997

Будучи фторированным растворителем нового-поколения, HFE 7200 устанавливает эталон точной очистки в средах, где абсолютная надежность не-не подлежит обсуждению. Разработанный с учетом сверх-высокой чистоты, исключительной совместимости с материалами и быстрого испарения-без остатков, он решает самые сложные задачи по очистке в производстве полупроводников, оптики, электроники и медицинского оборудования.

 

Очистка полупроводников: от удаления нано-остатков травления с подложек пластин до деликатной очистки чувствительных оптических линз и медицинских эндоскопов — HFE 7200 обеспечивает стабильную и повторяемую работу без ущерба для целостности подложки. Его негорючая природа-и низкая токсичность делают его безопасным выбором как для автоматических систем парового обезжиривания, так и для процессов ручной очистки, а его экологический профиль соответствует глобальным директивам по устойчивому развитию.

 

Там, где традиционные растворители терпят неудачу, HFE 7200 превосходит -, обеспечивая соответствие критически важных компонентов самым высоким стандартам чистоты, функциональности и долговечности.

novec hfe 7200
Основные преимущества HFE 7200 Тел.:+086-592-5803997

 

Ключевые области применения HFE 7200 Тел.:+086-592-5803997

 

1. Влажная очистка оборудования для травления полупроводников; Очистка компонентов жидких кристаллов и жесткого диска
HFE 7200 широко используется в передовых процессах влажной очистки при производстве полупроводников, особенно при удалении остатков после-травления с пластин и компонентов камеры. Его исключительная чистота, низкое поверхностное натяжение и быстрое испарение обеспечивают тщательную очистку, не оставляя ионных или твердых частиц. В индустрии дисплеев и хранения данных он одинаково эффективен для очистки деликатных жидкокристаллических панелей (ЖК-дисплеев) и компонентов жестких дисков (HDD), сохраняя оптическую прозрачность и механическую точность, удаляя при этом масла, частицы и органические остатки.

 

2. Очистка лазерного оборудования и очистка оптических линз.
Благодаря своим -коррозионным свойствам и-отсутствию остатков, HFE 7200 идеально подходит для обслуживания высокоэффективных-оптических систем. Он безопасно удаляет пыль, отпечатки пальцев и покрытия с лазерной оптики, линз, зеркал и датчиков, не повреждая анти-антибликовые или специальные покрытия. Его быстросохнущая- природа предотвращает образование полос, обеспечивая оптимальную светопередачу и точность системы в таких важных приложениях, как литография, лазерная резка, медицинская визуализация и научные приборы.

 

3. Очистка прецизионных электронных компонентов.
HFE 7200 служит высоконадежным растворителем для обезжиривания и удаления флюса с чувствительных электронных узлов, включая печатные платы (PCB), разъемы, реле и микроэлектромеханические системы (MEMS). Его низкая токсичность и превосходная совместимость с материалами позволяют безопасно использовать его с пластиками, эластомерами и металлами, предотвращая набухание, растрескивание или электрическую деградацию, обеспечивая при этом высокую диэлектрическую надежность.

 

4. Авиация и медицина (очистка медицинских линз, специальные чувствительные материалы)
В авиации HFE 7200 используется для очистки авионики, навигационных систем и чувствительных композитных материалов, не влияя на их структурные или электрические свойства. При производстве и обслуживании медицинского оборудования он применяется для очистки линз эндоскопов, хирургических инструментов, диагностических датчиков и других биосовместимых компонентов, где стерильность, не-реактивность и отсутствие остатков имеют первостепенное значение.

 

5. Косметические средства (макияж/средства для снятия макияжа, маски для лица)
В косметических рецептурах HFE 7200 действует как летучий носитель или растворитель в таких продуктах, как стойкий макияж, водостойкие средства для снятия макияжа и тканевые маски. Его нежные, не-раздражающие свойства и быстрое испарение помогают равномерно доставлять активные ингредиенты, не оставляя жирных следов, улучшая удобство использования и стабильность продукта.

 

6. Чистящие и ополаскивающие средства для парового обезжиривания.
HFE 7200 – предпочтительный растворитель в системах парового обезжиривания с замкнутым-контуром для удаления масел, смазок и воска с металлических, керамических и полимерных деталей. Его низкая температура кипения и высокая стабильность обеспечивают эффективную конденсацию и регенерацию, минимизируя расход растворителей и воздействие на окружающую среду, обеспечивая при этом чистоту промышленного-класса.

 

7. Смазочный носитель
В качестве жидкости-носителя в специальных смазочных материалах и противозадирных составах HFE 7200 облегчает равномерное нанесение смазочных частиц или присадок на сложные механические узлы. Он быстро испаряется после нанесения, оставляя после себя равномерную тонкую смазочную пленку, не притягивая пыль и не нарушая допусков.

 

8. Специализированный растворитель, дисперсионная среда, реакционная среда и экстракционный растворитель.
HFE 7200 используется в исследованиях и разработках, а также в химических процессах-в качестве инертной среды для диспергирования наноматериалов, проведения контролируемых химических реакций или экстракции чувствительных соединений. Его химическая стабильность, не-полярность и низкая реакционная способность делают его пригодным для работы с современными материалами, фармацевтическими препаратами и тонкими химикатами.

 

9. Замена ХФУ, ГХФУ, ГФУ и ПФУ.
Являясь экологически безопасной альтернативой растворителям,-разрушающим озоновый слой и обладающим высоким-потенциалом глобального-потепления-(ПГП), HFE 7200 предлагает сопоставимые или превосходящие характеристики с нулевым потенциалом разрушения озона (ODP) и значительно более низким ПГП. Он поддерживает соблюдение международных экологических норм, таких как Монреальский и Киотский протоколы.

 

10. Теплоноситель
HFE 7200 используется в однофазных-или двухфазных-системах охлаждения электроники, лазерных систем и лабораторного оборудования. Его термическая стабильность, негорючесть и диэлектрические свойства позволяют эффективно и безопасно отводить тепло при прямом-контактном или косвенном охлаждении, включая иммерсионное охлаждение для высокопроизводительных-вычислений и силовой электроники.

Технический паспорт hFE 7200 Тел.:+086-592-5803997

Внешний вид и свойства

Бесцветная прозрачная жидкость

Запах

Без запаха

Температура кипения при 1 атм.

156-160 градусов

Точка замерзания

-84,9 градусов

плотность жидкости (25 градусов)

1,810 г·мл-1

Точка возгорания

Нет

диэлектрические потери (10 МГц)

0.00418

объемное сопротивление

Больше или равно 1,579×1011 Ом·мм

показатель преломления

1.308

коэффициент объемного расширения (20-80 градусов)

5.420×10-3

кинематическая вязкость (25 градусов)

3,05 мм2·с-1

Удельная теплоемкость

1.151 J·g-1·K-1

коэффициент теплопроводности (25 градусов)

0.0656W∙m-1∙K-1

поверхностное натяжение

17,51 мН·м-1

диэлектрическая прочность (2,5 мм)

>50,4 кВ

диэлектрическая проницаемость (1 МГц)

4.75

ОДП

0

ПГП

180

Экскурсия по фабрике Тел.:+086-592-5803997
gas r410a factory 4
fk5 1 12 manufacturer
PERC

 

Профиль компании Тел.:+086-592-5803997

 

hfa 134a propellant manufacturer

горячая этикетка : hfe 7200 cas 163702 06 5 для очистки полупроводников, поставщики, производители, завод, котировка, цена, купить

Связаться с поставщиком