SF6, или гексафторид серы, представляет собой газ, обычно используемый при сухом травлении, в основном используемый для травления кремния в процессе производства полупроводников. Газ SF6 имеет октаэдрическую структуру, состоящую из центрального атома серы, окруженного шестью атомами фтора. Его неполярные свойства делают его изолирующим газом в высоковольтном электрооборудовании. Физические свойства SF6 включают бесцветность, отсутствие запаха, негорючесть, нетоксичность, изоляционные свойства, тяжелее воздуха, охлаждающую способность, высокую диэлектрическую прочность, термическую стабильность и плохую растворимость в воде, но растворим в неполярных органических растворителях.
С точки зрения химических свойств, SF6 практически не реагирует с другими веществами при комнатной температуре, но будет разложить под сильным ультрафиолетовым светом.
SF6 обычно производится промышленностью, и его содержание в природе очень мало. Уравнение реакции для производства SF6:
2 cof₃ + sf₄ + [br₂] → sf₆ + 2 cof₂ + [br₂]
Когда SF₄, CoF₃ и Br₂ смешиваются и нагреваются до 100 градусов, между ними происходит реакция. В этой реакции часть SF₄ и CoF₃ реагирует с образованием SF₆ и CoF₂. Бром в реакции не расходуется, а действует лишь как катализатор.
SF6 опасен?
Хотя SF6 нетоксичен в своем чистом состоянии, он вытесняет кислород из воздуха, а объемная концентрация, превышающая 19% в воздухе, вызовет удушье. Следовательно, очень важно своевременно обнаружить утечки SF6 и принять соответствующие превентивные меры в процессе производства полупроводников.
Использование SF6 в полупроводниковой промышленности
SF6 широко используется в производстве полупроводников. В процессе травления кремния SF6 используется в качестве основного травильного газа и работает вместе с образующимися летучими газами SF4 и C4F8 для достижения глубокого травления кремния. Кроме того, SF6 часто используется для сухого травления металлов Mo и W, реагируя с этими металлами с образованием летучих гексафторидов MoF₆ и WF₆. Хотя SF6 не является предпочтительным газом для травления алюминия, его можно использовать в качестве вспомогательного газа для повышения скорости травления алюминия при смешивании с такими газами, как Cl₂.
Кремниевое травление
На стадии травления кремния, только кремний на дне, где была удалена пассивированная пленка, запечатлен. Вводится газ SF6, и SF6 диссоциируется в плазме, чтобы генерировать различные продукты разложения, в том числе высокоактивные атомы фтора (F).
SF6-->SF4+F2-->SF2+2F2-->F+...
Образовавшиеся атомы фтора реагируют с поверхностью кремния с образованием тетрафторида кремния (SiF4), летучего соединения, которое легко выводится из камеры.
Si+4F-->СиФ4
Травление нижнего пассивационного слоя
На этом этапе слой пассивации образуется как на боковой стенке, так и на дне. Тем не менее, мы хотим оставить слой пассивации на боковой стенке, чтобы защитить боковую стенку от трапта, но нам нужно удалить слой пассивации на дне, чтобы травить вниз. Следовательно, в настоящее время газ SF6 будет введен для атаки атаки на слой пассивации на дне. После того, как слой пассивации внизу исчезает, SF6 продолжает травить кремний, и цикл повторяется, как бесконечный цикл.
Универсальный завод по производству гексафторида серы SF6 в Китае
Отправьте нам запрос на гексафторид серы SF6!
Мы предоставим высококачественный элегаз и услуги для удовлетворения ваших потребностей в закупках.
Отправить запрос сейчас
